东微电子宣布突破光刻机直线电机技术 助力国产化进程
时间:2025-08-07 12:00
小编:小世评选
近日,河南东微电子材料有限公司(以下简称“东微电子”)在光刻机直线电机技术方面取得了重要突破。这一成果不仅标志着公司在关键领域的技术进步,更是中国半导体产业链国产化进程中的一个重要里程碑。
光刻机作为半导体制造中不可或缺的核心设备,其关键零部件直线电机的性能直接影响到整机的工作效率和输出质量。光刻机的主要功能是将电路图案以纳米级精度“雕刻”在硅片上,而直线电机则负责驱动工作台和掩模台进行高速、高精度的直线运动。因此,直线电机的精准度和稳定性成为影响光刻机性能的关键因素。
据东微电子透露,此次技术突破得益于公司在2021年组建的技术攻坚团队。面对国外技术的封锁与垄断,该团队通过技术攻关,深入研究光刻机用关键零部件的特殊性能指标、极端使用环境及精密制备工艺。经过多年的不懈努力,团队不仅在技术上与国际顶尖水平对标,还成功解决了多个国产化面临的痛点,向外界展示了“中国制造”的实力。
值得注意的是,高端光刻机使用的直线电机技术门槛极高,市场上多数高端光刻机仍需依赖进口。这使得我国在半导体领域面临着发展的“卡脖子”问题。通过此次技术突破,东微电子向业界证明了,国产化不是口号,而是一个切切实实的行动。
东微电子的官方网站显示,公司成立于2018年,注册地位于河南省郑州市航空港实验区。同时,其在上海、北京、无锡、厦门等地设有多个研发和生产基地,致力于为高端集成电路制造提供材料和设备零部件的一站式服务。这一布局彰显出东微电子在推进国内半导体产业链自主可控方面的深思熟虑和长远规划。
随着芯片制程向纳米级进程发展,传统的旋转电机和传动装置已难以满足光刻机对高精度、高速度的要求。之前,国内高端光刻机供应链严重依赖国外技术和设备,十分脆弱。东微电子的此次技术突破,为我国半导体产业的自给自足提供了信心,并为整个产业链的完善与发展奠定了基础。
在接受采访时,东微电子的相关负责人表示:“我们将继续加大技术研发投资,努力实现更多关键技术的自主可控,争取在未来几年内形成完整的国内光刻机产业链,以保障我国半导体行业的安全与稳定。”
作为一个在技术短板上奋力追赶的企业,东微电子的突破不仅带来了直接的经济效益,更重要的是,提升了我国在全球半导体产业中的竞争力。随着国家不断加大对半导体产业支持力度,东微电子正迎来快速发展的良好机遇。
当前,随着全球科技竞争加剧,特别是对半导体产业的重视,许多国家都在加快布局,努力实现自给自足。东微电子的成功经验能够为其他企业提供借鉴,并推动更多企业参与到这一重要领域之中,形成合力,促进我国半导体产业的全面繁荣。
东微电子在光刻机直线电机技术上的突破,不仅是其自身发展历程中的一座里程碑,也为我国半导体产业的自主可控发展注入了新的活力。期待未来东微电子能够继续发挥技术优势,进一步推动国内半导体产业的创新与发展,助力国家科技自立自强。